Tavolino di movimento a portale XYZT per l'ispezione dei wafer

Il nostro palco di movimento a portale XYZT per l'ispezione di wafer integra basi in granito ad alta rigidità, guide di cuscinetti ad aria, azionamenti di motori lineari ed encoder ottici di precisione per ottenere una precisione di posizionamento di ± 1 µm e una ripetibilità di ± 0,1 µm. Progettati per il funzionamento 24 ore su 24, 7 giorni su 7 in ambienti cleanroom (Classe 100/Classe 10), i nostri stadi gantry sono caratterizzati da vibrazioni ultra-basse, elevata risposta dinamica (velocità massima 500 mm/s) e stabilità termica per garantire un rilevamento affidabile dei difetti dei wafer e una metrologia dimensionale durante l'intero ciclo di vita della produzione.

● Palcoscenico di movimento a portale XYZT personalizzato per l'ispezione dei wafer, progettato in base alle specifiche delle apparecchiature di ispezione dei wafer e ai disegni CAD

● Precisione di posizionamento di ±1 µm con ripetibilità a livello nanometrico (±0,1 µm) per misurazioni critiche di wafer

● Tecnologia a cuscinetti d'aria per movimenti senza attrito e zero generazione di particelle in ambienti cleanroom

● Design termicamente stabilizzato con controllo attivo della temperatura (±0,01°C) per una precisione ultraelevata

● Produzione certificata ISO 9001:2015 con tracciabilità completa per la conformità del settore dei semiconduttori

Caratteristiche principali e vantaggi principali

Design meccanico ad alta rigidità

Il nostro palco di movimento a portale XYZT per l'ispezione di wafer è dotato di basi monolitiche in granito (coefficiente di espansione termica < 0,5 × 10⁻⁶/°C) e travi a portale in polimero rinforzato con fibra di carbonio (CFRP) per un'eccezionale rigidità strutturale e una deformazione termica minima. Il design simmetrico del portale elimina l'errore di Abbe e garantisce una distribuzione uniforme del carico sull'intera area di ispezione dei wafer.

Sistema di controllo del movimento di precisione

Integrati con azionamenti di motori lineari ad alte prestazioni (gioco zero, elevata accelerazione) ed encoder ottici assoluti (risoluzione di 1 nm), i nostri stadi a portale XYZT offrono un movimento fluido e preciso con una precisione inferiore al micron. L'algoritmo avanzato di servocontrollo compensa gli errori dinamici e garantisce stabilità di posizionamento a livello nanometrico durante le operazioni di scansione dei wafer.

Design pronto per le camere bianche

Ogni piattaforma di movimento a portale XYZT per l'ispezione di wafer è progettata per il funzionamento in camera bianca di Classe 100/Classe 10 con componenti compatibili con il vuoto, guide lineari sigillate e materiali a basso rilascio di gas (conformi a SEMI S2-0701). La tecnologia del cuscinetto ad aria elimina la generazione di particelle, mentre il sistema di gestione dei cavi incluso previene la contaminazione durante i cicli di ispezione dei wafer ad alta velocità.

Specifiche tecniche

Specifiche meccaniche

Materiale di base: granito nero (00级)/composito CFRP

Sistema di guida: cuscinetti ad aria di precisione / guide a rulli lineari

Sistema di azionamento: motori lineari brushless/servomotori con viti a ricircolo di sfere

Feedback: codificatori ottici assoluti (risoluzione 1 nm)

Specifiche ambientali

● Temperatura operativa: 20±0,5°C (controllo termico attivo)

● Classificazione per camera bianca: Classe 100 (Classe ISO 5)/Classe 10 (Classe ISO 4)

● Isolamento delle vibrazioni: sistema di controllo delle vibrazioni attivo/passivo

● Alimentazione: 200-240 V CA, 50/60 Hz, monofase/trifase

Applicazioni

● Scansione ad alta velocità di wafer da 200 mm/300 mm/450 mm per difetti di particelle e modelli

● Posizionamento a livello nanometrico per sistemi di rilevamento di difetti ottici/microscopici

● Compensazione dinamica della planarità per l'ispezione dei wafer deformati

● Integrazione con strumenti di ispezione a scansione laser e al microscopio elettronico

Metrologia dei wafer

Metrologia dimensionale del wafer

● Misurazione precisa dei parametri di spessore, curvatura e deformazione del wafer

● Allineamento a livello submicronico per sistemi metrologici sovrapposti

● Posizionamento termicamente stabilizzato per metrologia sensibile alla temperatura

● Metrologia in linea automatizzata per i processi di fabbricazione dei wafer

Lavorazione dei wafer

Lavorazione e manipolazione dei wafer

● Allineamento ad alta precisione per la litografia di wafer e i processi di incisione

● Sistemi di movimentazione e trasferimento dei wafer compatibili con le camere bianche

● Posizionamento dinamico per operazioni di taglio laser e assottigliamento dei wafer

● Integrazione con sistemi robotici di gestione e automazione dei wafer